硅片清洗剂广泛应用于光伏、微电子等行业硅片清洗，由于原料硅片在运输过程中会有所污染，表面洁净度不是很高，对后续工艺产生很大的影响，所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污，然后溶解氧化膜，因为氧化层是"沾污陷进"，会引起外延缺陷；再去除颗粒、金属等，同时使硅片的表面钝化。目前多采用传统的RCA清洗方法，不仅可以去除硅片表面的金属、有机物等，还可以去除小颗粒等污染物。RCA湿法清洗通常由两种不同的化学溶液组成，即SPM和DHF。SPM主要包含硫酸和过氧化氢，清洗温度再120-150℃，具有很高的金属氧化能力，志盛威华防腐涂料工程师讲到可将金属氧化后溶于清洗液中，并能将有机物氧化生成二氧化碳和水。用SPM清洗硅片可以去除表面的种有机沾污和部分金属，当沾污特别严重时，难以去除干净。DHF(HF)，主要是10%HF，可以去除硅片表面的自然氧化膜，同时抑制氧化膜的形成。易去除硅表面的Al、Fe、Zn、Ni等金属，也可以去除自然氧化膜上的氢氧化物。在自然那氧化膜被腐蚀掉时，硅片几乎不被腐蚀。此外，改进的RCA清洗溶液中还含有低于20%的氢氧化钠或氨水，以及少量的氯离子。

因此，该光伏产业的硅片清洗废水会含有大量HF、过氧化氢、酸或碱（包含硫酸、盐酸、氢氧化钠或氨水）等。由于氢氟酸中的氟离子的半径很小，这导致它有很强的渗透性，致密的氧化物也不能阻止它的渗透，同时具有无机酸的腐蚀性，在防腐行业里，腐蚀性极强，腐蚀介质渗透率高，是很难防腐的物质。此外，大量的过氧化氢，具有强氧化性，会加强酸或碱的腐蚀性。针对以上情况，可选用北京志盛威华化工有限公司的重防腐涂料，ZS-1033耐氢氟酸防腐涂料和ZS-1032耐强氧化防腐涂料，这两种涂料是针对HF和强氧化酸碱腐蚀专门研发的，具有针对性和专用性。